Process Chemical

Developer

Display 제조공정 중 Lithography 공정에서 자외선에 노출된 Photoresist의 노광/비노광 영역을 선택적으로 용해함으로써
패턴을 형성하는 제품입니다.

※ Lithography : 기판 위에 제작할 회로를 그리는 과정 (≒사진 인화)

  • Key Features
    • Excellent solubility
    Product Line up
    • TMAH : 24.8%, 2.38%
    • CFD : KOH 4.28%
    관련제품군
    • TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide) - TFT用
    • CFD(Color Filter Developer) - CF用
    Application

약관

약관내용